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蔡司场发射扫描电镜sigma的技术参数

分类:公司新闻 发布时间:2022-06-23 13780次浏览

  蔡司公司*新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统...

  云南蔡司公司*新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极 致,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高 级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳 米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间,提高 效率。

场发射云南扫描电镜

  产品应用

  扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分 析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶 粒取向测量。

  技术参数

  ▪ 分辨率:1.2nm @15 kV 2.2nm @1kV

  ▪ 放大倍数:10-1,000,000×

  ▪ 加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)

  ▪ 探针电流:4pA-20nA (40nA&100nA可选)

  ▪ 低真空范围:2-133Pa (Sigma 300VP可用)

  ▪ 样品室:365 mm(φ),275mm(h)

  ▪ 样品台:5轴优中 心全自动

  ▪ X=125mm

  ▪ Y=125 mm

  ▪ Z=50 mm

  ▪ T=-10º-90º

  ▪ R=360º 连续

  ▪ 系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制


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